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硅晶片表面光阻薄膜厚度測量（UV)

  • 儀器品牌島津
  • 經營單位京科瑞達
  • 我們的產品已覆蓋色譜，光譜，質譜三大類共100多個品規，品種全，規格多，能滿足客戶對分析儀器的需求。主要產品有：氣相/液相色譜儀（GC/HPLC）、氣質/液質聯用儀（GCMS/LCMS）、紫外/紅外光譜儀（UV/FTIR）、原子吸收光譜儀（AAS）、等離子體光電直讀光譜儀（ICP/ICP-MS）等。二手分析儀器在醫藥、化工，環保、食品、科研等領域的廣泛應用，有效地解決了客戶對分析儀器“想用買不起”的困擾，受到了廣大客戶的認可。
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詳情介紹

很多方法都可以用來測量薄膜的厚度。這些方法中，紫外可見分光光度計提供了簡便的、對薄膜厚度不造成損害的測量方式。

對硅片上兩個不同厚度的光阻層(0.5 μm, 3.0 μm)進行測量。結果發現，薄膜越薄，波的周期越長，反之亦然。

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紫外可見分光光度計

允許對所有種類的薄膜進行簡易的并且不造成薄膜厚度損害的測量。從薄膜的前后表面反射出的光相互交叉形成一個干涉圖。在一定波長范圍內，薄膜的厚度可通過光譜上波的數量計算得到（在物質的折射率已知的情況下）。


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